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多晶硅清洗用超純水處理設(shè)備關(guān)鍵技術(shù)EDI技術(shù)與反滲透技術(shù)的有機(jī)結(jié)合，達(dá)到連續(xù)除鹽、運行維護(hù)簡單、無酸堿排放污染。多晶硅片，半導(dǎo)體器件等清洗過程中所需的純水需要符合國家《電子級水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)》18.2兆歐以上，目前最有效的制水工藝就是預(yù)處理加反滲透加EDI技術(shù)工藝。超純水處理設(shè)備已被多晶硅清洗行業(yè)廣泛應(yīng)用。

典型工藝：